離子氣相沉積鋁
發布時間：2017-08-07
離子氣相沉積(IVD)和通常的真空镀膜是相同的,其共同點是使金屬燕發,讓它凝在待镀件的表面，鋁離子氣相沉積在精致件上镀裝飾鋁,其镀層較厚,較致密，並有較大的附着力。這種镀是在镀件和蒸發源之間,加以高的負電位而獲得的。把情性氣體引入真空系統並離子化，帶正電荷的離子,被吸引到帶負電荷的另件表面上。它們轟擊另件表面,使表面清潔,能夠得到較好的附着力。
接着輝光放電靜化後,繼以鋁的蒸發。當它通過輝光放電區時,它一部份就離子化了,使其加速到達另件。離子化提供了較好的分散能力,可使複雜形狀的工件得到均勻的镀層。連續把U型鋁線饋送到蒸發源處,就可以獲得較厚的镀層。
離子氣相沉積能代替電镀镉和真空沉積镉以及镍一镉擴散層。爲了節約,可以在低合金鋼上镀鋁來代替不鏽鋼。镀層不會產生氫脆,摩擦系數高于镀镉。镀層顯示的性能與純鋁相同,它與鋁結構有相溶性,並減少了鋁與不同金屬(如鋼)結合時的腐蝕問題。在溫度超過800F時也可以用,不會降低基體的機械性能,此外這種镀複方法不會造成環境汙染。
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